EVG770 Nanoimprint Lithography (NIL) Stepper
Wir setzen einen speziell modifizierten EVG770 Nanoimprint Lithography (NIL) Stepper zur großflächigen Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen in UV-Prägelacken ein. Zusammen mit speziellen Materialien und Prozessen erreichen wir dabei höchste Präzision bis zu praktisch nahtlosen Übergängen zwischen einzelnen Strukturen.
Step and Repeat-Anlage, Foto: JOANNEUM RESEARCH, Robert Stadler
Eigenschaften
- Aufnahme großflächiger Foliensubstrate bis 700×380 mm²
- Lückenschluss zwischen kleinformatigen Mastern und großflächigen Arbeitsstempeln durch Kombination einer sehr hohen Positioniergenauigkeit mit folienbasierten Hochdurchsatz-Methoden
- Signifikant höhere Prozessflexibilität und weitere Reduktion der Prozesskosten
- Kundenspezifische Replikation von Mikro- und Nanostrukturen in multifunktionelle Lacke
Unser Angebot
Wir bieten unseren Kunden und Partnern Forschungs-Pilotlinien zur Entwicklung und Implementierung neuer Produktideen und Herstellungsprozesse, von der Idee bis hin zum Prototypen. Die Pilotlinie für rollenbasierte Mikro- und Nanostrukturierung am Institut MATERIALS umfasst Simulation, Design und Materialentwicklung (Beschichtungen, Prägelacke) und bietet großflächige Strukturierung und Struktur-Replikation vom Mastering bis hin zur Hochdurchsatz-Fertigung. Der EVG770 NILStepper komplettiert diese Pilotlinie im Hinblick auf die Herstellung von flexiblen Arbeitsstempeln für rollenbasierte Prozesse.
Erfahren Sie mehr über unsere Services im Bereich Step and Repeat UV-Nanoimprintlithografie.
