2D- und 3D-Strukturierung mit Laser- und Elektronenstrahllithografie
Hochauflösende 3D-Strukturierung mittels Zwei-Photonen-Lithographie sowie stufenlose 2.5D-Strukturierung mittels maskenloser Graustufen-Laserlithographie oder Laserablation und Elektronenstrahllithographie
Laserlithographie zur Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen © JOANNEUM RESEARCH
Wir verfügen über einzigartige Technologien zur hochauflösenden 3D-Strukturierung mittels Zwei-Photonen-Lithographie, stufenlosen 2.5D-Strukturierung mittels maskenloser Graustufen-Laserlithographie oder Laserablation und 2D-Nanostrukturierung mit Elektronenstrahllithographie. Damit gefertigte Prägewerkzeuge bilden eine wichtige Basis unseres UV-NIL-Verfahrens.
Unsere Beteiligten Partner & Fördergeber
Das sagen unsere Kunden
Weitere Produkte und Services
Umwelt-, Bioanalytische und Diagnostische Sensorik kombiniert mit smarten mikrofluidischen Lab-on-a-chip und organ-on-a-chip-Systemen
Kostengünstige Lösungen über eine Funktionserweiterung klassischer LED-basierter Beleuchtungssysteme im Bereich Visible Light Communication, des Visible Light Positioning, und des Visible Light Sensing
R2R-UV-NIL Pilotlinie zur kontinuierlichen und kostengünstigen Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen auf flexiblen großflächigen Foliensubstraten
Funktionelle Beschichtungsverfahren: Plasma- und Vakuumbeschichtung (PVD, PA-CVD), Atmosphärendruck-Plasmajetverfahren sowie auch digitale Druckverfahren
Laserschweißen, Laserlegieren und Laserauftragsschweißen, mit besonderem Schwerpunkt auf Werkstoffkompetenz
Entwicklung kundenspezifischer Prototypen, speziell in den Bereichen LED-Beleuchtung und Sensorik: Schaltungsdesign, Konzeption des Systems bis hin zum Prototyping
Skalierbare und digitale Druckverfahren (inkl. 3D-Druck von Elektronik) zur Generativen Fertigung funktionaler Komponenten
Gesamtkonzepte für Design, Simulation, Optimierung und Prototyping von optischen Komponenten für maßgeschneiderte Lichtlösungen
Replikation von Master-Strukturen nahezu nahtlos auf großer Fläche (bis zu 380 x 700 mm²) mittels Step&Repeat UV-NIL-Prozess
Messungen und Analyse von kleinsten Strukturen, Schichten und Bauelementen im Mikro- und Nanometermaßstab
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