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Produkte & Services -  
Materials

Step and Repeat UV-Nanoimprintlithografie

Replikation von Master-Strukturen nahezu nahtlos auf großer Fläche (bis zu 380 x 700 mm²) mittels Step&Repeat UV-NIL-Prozess

Ursula Plafinger an der Stap and Repeat Anlage am Standort Weiz

Step and Repeat-Anlage Foto: JOANNEUM RESEARCH/Stadler

Mittels Step&Repeat UV-NIL-Prozess replizieren wir kleine Master-Strukturen nahezu nahtlos auf großer Fläche (bis zu 380 x 700 mm²). Wir verwenden diesen Prozess für kundenspezifische Replikationen von Mikro- und Nanostrukturen oder auch zur Produktion von Stempeln für unsere R2R-Pilotanlage.

 

Unser Angebot

Wir bieten unseren Kunden und Partnern Forschungs-Pilotlinien zur Entwicklung und Implementierung neuer Produktideen und Herstellungsprozesse, von der Idee bis hin zum Prototypen. Die Pilotlinie für rollenbasierte Mikro- und Nanostrukturierung am Institut MATERIALS umfasst Simulation, Design und Materialentwicklung (Beschichtungen, Prägelacke) und bietet großflächige Strukturierung und Struktur-Replikation vom Mastering bis hin zur Hochdurchsatz-Fertigung. Der EVG770 NILStepper komplettiert diese Pilotlinie im Hinblick auf die Herstellung von flexiblen Arbeitsstempeln für rollenbasierte Prozesse.

 

Vorteile der Nanoimprint-Lithographie

Die Nanoimprint-Lithographie ist – verglichen mit anderen lithographischen Verfahren – eine kostengünstige Strukturierungstechnologie und ideal für den Einsatz in hochvolumigen Herstellungsprozessen geeignet. Der mit der Produktion von Arbeitsstempeln für industrietaugliches, rollenbasiertes Prägen verbundene Zeit- und Kostenaufwand ist immer noch signifikant. Die Entwicklung der Step+Repeat-Technologie für großflächige Foliensubstrate macht für uns den Lückenschluss zwischen kleinformatigen Mastern und großflächigen Arbeitsstempeln möglich.

Dies bringt unter anderem eine signifikant höhere Prozessflexibilität und eine weitere Reduktion der Prozesskosten im Bereich der Nanoimprint-Technologie. Die Adaptierung der EVG770-Anlage gemeinsam mit EV Group umfasste vor allem eine Erweiterung der Probenaufnahme von Wafer-Geometrien auf großflächige Foliensubstrate.

Unter Verwendung einer auf UV-Prägen basierenden Step+Repeat-Technologie entstehen flexible, polymerbasierte Arbeitsstempel für den Einsatz in Rolle-zu-Rolle-Prägeprozessen. Der Ansatz kombiniert die sehr hohe Positioniergenauigkeit der Halbleitertechnologie mit folienbasierten Hochdurchsatz-Methoden und ermöglicht eine kostengünstige und industrietaugliche Alternative zur direkten Verwendung herkömmlicher zeitaufwendiger Nanostrukturierungsverfahren.

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