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Properties of TiO2 thin films deposited by RF magnetron sputtering

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Beteiligte Autoren der JOANNEUM RESEARCH:
DI Dr. Wolfgang Waldhauser; DI Dr. Jürgen Lackner
Autor*innen:
Sima, Cornelia; Waldhauser, W.; Lackner, Juergen M; Kahn, Markus; Nicolae, Ionut; Viespe, Cristian; Grigoriu, C.; Manea, A.
Titel:
Properties of TiO2 thin films deposited by RF magnetron sputtering
Seiten:
1446-1449
Publikationsdatum
2007-05

Publikationsreihe

Nummer
9
Proceedings
Journal of Optoelectronics and Advanced Materials
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Jahr/Monat:
2007
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